Na IDF představil Intel řadu novinek, v oblasti desktopových a mobilních čipů to pak byl očekávaný Broadwell, který bude vyráběn 14nm technologií a v prvních zařízeních se objeví v roce 2014
Šéf Brian Krzanich představil i budoucnost Intelu, která je zaměřená i na internet věci (Quark) a budoucí vývoj výrobních technologií Intelu.
Plán výrobních technologií Intelu - 10 nm v roce 2015 a 7 nm dva roky poté (2017). Podobně jako u 14nm technologie lze ale předpokládat skluz jednoho roku, než se objeví v prvních zařízeních
Strategie „Tick-Tock“ se bude Intel držet i nadále, nyní je k dispozici aktualizovaný výrobní plán, který zahrnuje 10nm tranzistory v roce 2015 (v zařízeních 2016) a první čipy pod hranicí deseti nanometrů budou mít 7nm tranzistory a představí se v roce 2017, respektive v zařízeních pravděpodobně během roku 2018.
Porovnání velikost a spotřeby - 22nm Haswell vs. 14nm Broadwell
S menšími tranzistory přichází nejen problémy z mnoha oblastí (materiál, drahá výroba, komplikovanější chlazení), ale také výhody v podobě nižší spotřeby, velikosti a stále vyššího výkonu. Jak můžete vidět na obrázku z IDF, už i Broadwell přinese oproti Haswellu další značné zmenšení.
Při porovnání spotřeby v programu Cinebench, který dokáže vytížit všechna jádra, měl 22nm čip Haswell spotřebu 6,8 W a 14nm čip Broadwell pak pouze 4,9 W.
